10月7日，台积电公布，其业内第一款可商业的极紫外线（EUV）光刻技术七纳米技术plus（N7+）将向顾客交货商品。选用EUV技术性的N7+加工工艺创建在台积电取得成功的7nm连接点之中，为6nm及更优秀的技术性刮平了路面。

N7+的烧录是有史纪录至今更快其一。N7+于2019年二季度刚开始烧录，其生产量与最开始的N7加工工艺（已超出1年的生产量）相仿。

N7+还出示了改善的总体特性。与N7加工工艺对比，N7+的相对密度提升了15％至20％，并减少了功率，这使其成为制造行业下这波商品愈来愈火爆的优选。台积电始终在迅速布署容积以考虑由好几个顾客驱动器的N7+要求。

EUV技术性使台积电可以再次促进芯片尺寸的开发设计，由于较短光波长的EUV光可以尽快复印出优秀技术性设计方案的氧化硅特点。台积电的EUV专用工具已超过生产制造成熟情况，专用工具的易用性已超过大批量生产的总体目标，而且在平时实际操作中的功率超过250瓦。

“随之AI和5G的层出不穷，使IC改变现状的新方式 这般之多，人们的顾客填满了自主创新的最前沿设计构思，她们借助台积电的技术性和生产制造来使他们变成实际，”台积电市场拓展高级副总裁张凯文博士研究生说。“人们在EUV上的取得成功让台积电不但使这些领跑的设计方案变成将会，并且凭着人们非凡的生产制造工作能力保持了大批交货的又1个非常好的事例。”

根据其取得成功的工作经验，N7+为将来的优秀生产工艺确立了基本。台积电将在2020年一季度将N6技术性资金投入风险性生产制造，并在年末以前保持烧录。随之EUV的深化运用，N6的逻辑性相对密度将比N7高18％，而且与N7彻底适配的设计方案标准使顾客能够大大缩短商品发售時间。