【电子元器件采购网】10月15日资讯，富士胶片控股公司和住友化学将最早在2021年开始提供用于下一代芯片制造的材料，这将有助于智能手机和其他设备向更小、更节能等趋势发展。报道进一步指出，富士胶片正投资45亿日元（4,260万美元），在东京西南部的静冈县生产工厂配备设备，最早将于明年开始批量生产。该公司表示，使用该产品，残留物更少，从而减少了有缺陷的芯片。

       在光刻胶领域，日本是全球的领先厂商，尤其是在EUV光刻胶方面，他们的市场占比更是高达90%，然而他们似乎并没有放慢脚步。同时，住友化学将在2022财年之前为大阪的一家工厂提供从开发到生产的全方位光刻胶生产能力。由于其强大的市场，该公司已经达成了向大型制造商提供产品的临时协议。

　　信越化学在台湾设厂，为了服务台积电？

　　日本信越化学工业公司将耗资约300亿日圆（2.85亿美元），将半导体厂重要材料光刻胶的产能调高20%，而且将首度在台湾生产，借此为先进芯片的生产扩大供应。

　　信越化学将在日本与台湾投资生产光刻胶的新设备。这种材料用于在矽晶圆上形成电路图案。随着半导体材料领域的竞争加剧、加上用于5G装置、资料中心与其它应用的芯片需求成长，让信越化学这家日本具领导地位的光刻胶大厂提高产能。

　　信越化学在台湾的云林厂将从2021年2月左右率先新增产能。届时，信越化学将开始在台湾生产这种用于适合用于先进极紫外光（EUV）光刻技术的光刻胶。以往这种材料只在日本生产。信越化学希望此举能满足台积电等客户攀高的需求。

　　在日本，信越化学位于新泻县直江津的工厂的新设备预定在2022年2月开始运作。在台湾的产能将提高50％，直江津工厂将提高20％，同时也会扩编员工人数。

　　信越化学也将为南韩、中国大陆与其他市场的客户提高产量。其他日本光刻胶大厂，包括JSR与东京应化工业公司，也同时在日本与海外生产EUV光刻胶，而住友化学和富士胶片（Fujifilm）则准备进入这一领域。

　　为了实现7nm、5nm制程，传统光刻技术遇到瓶颈，EUV（13.5nm）光刻技术呼之欲出，台积电、三星也在相关领域进行布局。EUV光刻光路基于反射设计，不同于上一代的折射，其所需光刻胶主要以无机光刻胶为主，如金属氧化物光刻胶。想找元器件采购平台，电子元器件一站式采购平台，一站式电子元器件采购平台，电子元器采购网请关注深铭易购（专注一站式电子元器件采购服务，致力打造国内领先的电子元器件商城）。