消息称英特尔18A工艺良率升至55%,领先三星2nm

发布者:深铭易购     发布时间:2025-07-14    浏览量:--

【深铭易购】资讯:近日,英特尔阵营传来利好消息:其18A(1.8纳米)工艺良率已超越主要竞争对手三星,展现出强劲的技术实力。

根据KeyBanc Capital Markets最新发布的研究报告,英特尔18A工艺的开发进展迅速,良率高于三星SF2(2nm)工艺,但落后于台积电N2(2nm)工艺。然而,这表明英特尔确实有望在2025年底前实现大规模量产。

英特尔18A工艺当前良率已由上一季度的50%提升至55%,领先三星约40%的2纳米工艺良率,但仍略低于台积电65%的N2工艺良率。该数据表明,英特尔有望在2025年底前实现18A工艺的大规模量产。

良率的稳步提升对英特尔至关重要,尤其是该工艺主要应用于自家下一代移动处理器Panther Lake。KeyBanc表示,该公司正按计划为下一代移动CPU量产英特尔18A工艺,据报道,2025年第四季度,英特尔18A工艺良率有望达到70%。虽然尚难超越台积电,但已足以支撑英特尔在先进制程领域的竞争力。

英特尔18A工艺节点的未来前景一直存在不确定性,但该公司内部的使用足以证明该工艺的成功。英特尔计划先以18A工艺在尖端领域站稳脚跟,然后再以英特尔14A(1.4nm)工艺向外部客户转型。此举将帮助英特尔推出更具竞争力的产品,有望与台积电的A14工艺展开正面竞争,进一步推动半导体制造技术的发展。

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