三星代工良率低能效差 市占率或被台积电拉大
发布者:深铭易购 发布时间:2024-06-19 浏览量:--
【深铭易购】资讯:有消息称,今年全球无晶圆厂半导体和IT大厂将开始采用3nm制程作为主要制程,预计大部分订单将分配给台积电,这可能导致台积电与三星代工的市占率差距进一步拉大。
业界消息人士透露,截至6月17日,英伟达、AMD、英特尔、高通、联发科、苹果和谷歌等七家公司已采用台积电的3nm工艺。据悉,三星代工部门一直想争取的谷歌和高通最终也选择了台积电。
谷歌的Tensor处理器在第四代之前一直由三星代工,但从引入3nm工艺的第五代开始,将转为下单台积电。去年,人们普遍预计高通的骁龙8 Gen 4首批芯片将外包给台积电生产。
尽管三星三年前宣布开始量产3nm工艺,但在争取客户方面仍面临困难。2022年6月,三星在业界率先实现3nm环栅(GAA)工艺量产。然而,第一代3nm节点(SF3E)在良率和效率方面的表现未达预期,仅在加密货币挖矿等小众市场得到应用。此外,据报道,三星系统LSI部门开发并采用三星代工3nm工艺生产的Exynos 2500良率也不理想。
业内专家指出,三星代工3nm工艺的主要问题在于低良率和低能效。分析显示,尽管三星电子非常注重控制功耗和发热量,但其性能仍比台积电低10%至20%。随着人工智能(AI)服务在移动和服务器市场的扩展,芯片能效已成为关键因素。
台积电与三星电子在晶圆代工市场份额上的差距正在扩大。根据TrendForce的数据,三星电子的市场份额从去年第四季度的11.3%小幅下降至今年第一季度的11%。与此同时,尽管智能手机需求下降,但台积电的市场份额在同一时期从61.2%上升到61.7%。
此外,从2nm工艺开始,三星电子计划通过引入背面供电(BSPDN)技术大幅改善能效问题。三星最初计划在2027年后实现商业化,但现已决定加快采用该技术,目标是在明年或2026年开始大规模生产2nm工艺。
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