【深铭易购】资讯：半导体巨头英特尔于18日宣布，已在其位于俄勒冈州的研发中心成功完成业界首台商用高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）光刻机的组装。

半导体设备制造商阿斯麦（ASML）去年年底已开始向英特尔发货首套高数值孔径EUV系统的主要组件。如今，英特尔宣布已完成组装，显然意在展示其在该领域领先于竞争对手。

在为期4年的研发计划中，英特尔将推进5个工艺节点，最先进可达Intel 18A制程。未来，英特尔计划在其Intel 14A制程中正式引入高数值孔径EUV。此前分析师估计，这套高数值孔径EUV设备的价格约为2.5亿欧元。

英特尔近日透露，将在2027年前开发出14A制程，以及Intel 14A-E制程。

英特尔强调，目前高数值孔径EUV设备TWINSCAN EXE:5000正在进行校准。这套设备结合了英特尔晶圆厂内的其他技术，有望印制出比现有EUV设备更小1.7倍的特征。

此外，英特尔提到，公司已计划后续购置下一代TWINSCAN EXE:5200B系统。