传SK海力士将用台积电3nm生产HBM4,三星或跟进

发布者:深铭易购     发布时间:2024-12-05    浏览量:--

【深铭易购】资讯:据《韩国经济新闻》报道,韩国存储芯片巨头SK海力士(SK Hynix)计划应重要客户需求,预计将于2025年下半年通过台积电的3nm制程,推出定制化的第六代高频宽内存(HBM4)。消息人士透露,SK海力士已决定与台积电展开合作,最快将在2025年3月发布一款采用台积电3nm制程生产的基础裸片(Base Die)垂直堆叠HBM4原型,主要面向英伟达(NVIDIA)等重要客户。

与此前的HBM3E及早期的HBM采用传统的DRAM制程基础裸片不同,HBM4将采用全新的Logic Base Die。这个新型Logic Base Die将替代原有的DRAM基础裸片,进一步提升性能和能效。具体来说,Logic Base Die位于DRAM的底部,作为连接AI加速器中的图形处理单元(GPU)和DRAM之间的关键组件,主要起到控制器的作用。与传统Base Die不同,Logic Base Die允许客户进行自主设计,可以集成客户专有的IP,支持HBM的定制化,进一步提升数据处理效率,并预计能将功耗大幅降低至传统技术的30%。

从目前的消息来看,SK海力士计划将HBM4的基础裸片交由台积电使用3nm制程制造,相比此前传闻中的5nm制程,预计性能将提升20-30%。与此同时,三星也在考虑采用台积电3nm制程生产其HBM4的基础裸片,尽管早前有传言称三星将使用4nm制程。此举意味着,SK海力士的HBM4有望在技术上超越三星,具备更强的市场竞争力。

据了解,SK海力士决定选择台积电3nm制程制造HBM4的基础裸片,主要是为了应对三星在使用4nm制程生产HBM4的战略声明。如今,三星似乎也在重新评估其生产路线,甚至有可能选择与台积电合作,采用3nm制程生产HBM4基础裸片。

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