11 月 28 日讯，中国科学院微电子研究所与上海积塔半导体展开合作，合作中，韦亚一团队与上海积塔半导体就实际生产面临的光学临近修正问题，根据其工艺和产品特征，开展了光源优化、OPC 建模、版图优化以及硅验证等工作。

目前已帮助积塔半导体完成 5 轮 OPC 工作并顺利流片，直接支撑了积塔半导体在 0.18 纳米技术节点的量产工艺研发，同时帮助积塔半导体建立 OPC 研发团队。

本次合作是微电子韦亚一团队继与中芯国际、长江存储等国内集成电路制造企业合作之后，再次对实际制造产业企业进行指导，帮助企业建立光学临近效应的修正的流程，助其突破关键技术实现量产。 

上海积塔半导体有限公司拥有 5 英寸、6 英寸、8 英寸晶圆生产线，专注于模拟电路、功率器件的制造，是国内最早从事汽车电子芯片、IGBT 芯片制造的企业。  是上海市政府与中国电子信息产业集团合作协议的重要内容，也是其中第一个落地的重大产业项目。项目目标是建设月产能 6 万片的 8 英寸生产线和 5 万片 12 英寸特色工艺生产线，将打造面向工业控制和汽车电子等高端应用的特色工艺生产线。