【深铭易购】资讯：英特尔宣布，ASML的首批两台尖端光刻机已在其工厂投入生产，并且初步数据显示，这些设备比早期型号更为可靠。

在加利福尼亚州圣何塞举行的会议上，英特尔高级首席工程师Steve Carson表示，英特尔已利用ASML的高数值孔径（High NA）极紫外（EUV）光刻机，在一个季度内成功生产了30,000片晶圆。每片晶圆可用于制造数千个计算芯片。

2024年，英特尔成为全球首家接收并投入使用这些先进光刻设备的芯片制造商，预计这些新设备将能比早期型号生产出更小、更快速的计算芯片。这一举措标志着英特尔战略的转型，因为英特尔此前在采用上一代EUV光刻机方面落后于其他竞争对手。

据了解，每台High NA EUV光刻机的售价约为3.5亿美元（约合人民币25.4亿元），这一价格远高于ASML标准EUV设备的1.8亿至2亿美元。

英特尔花费了七年时间才将这些先进设备投入全面生产，这一过程中也错失了市场先机，导致其在与台积电的竞争中落后。在最初的生产阶段，英特尔曾面临着早期EUV设备在可靠性方面的挑战。

然而，Steve Carson表示，在初步测试中，ASML新一代High NA EUV设备的可靠性比上一代设备高出约两倍。“我们能够以稳定的速度生产晶圆，这对平台的稳定性带来了极大的好处，”Steve Carson说道。

ASML的新型EUV光刻机使用光束将图案打印到芯片上，并能通过更少的曝光步骤完成与早期设备相同的任务，从而节省时间和成本。Steve Carson补充道，英特尔工厂的初步结果表明，High NA EUV设备只需一次曝光和少量处理步骤，就能完成早期设备需要三次曝光和大约40个处理步骤才能完成的工作。

英特尔表示，计划利用High NA EUV设备推进Intel 18A（1.8nm）制造技术的开发，预计该技术将在今年晚些时候与新一代PC芯片一同进入量产。

此外，英特尔还计划借助High NA EUV设备全面投入下一代Intel 14A（1.4nm）技术的生产，但尚未公布该技术的量产时间表。