【深铭易购】资讯：日本佳能公司于2023年10月13日正式宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备可执行电路图案转移，这是半导体制造领域的一项重大突破。

随着掩模技术的不断改进，佳能公司预计，NIL（Nano Imprint Lithography，纳米压印技术）将有望支持电路图案的最小线宽达到10纳米，相当于2纳米节点。值得一提的是，佳能公司于2014年收购了MII公司，随后更名为佳能纳米技术（Canon Nanotechnologies），正式进军NIL市场。

纳米压印技术，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一种创新的微纳加工技术，最早由华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授于1995年首次提出纳米压印概念。直到2003年，NIL才被纳入国际半导体技术蓝图（ITRS）作为一项微纳加工技术。该技术涉及将微小图形设计并制作在模板上，然后通过压印等技术将其转移到涂有高分子材料的硅基板上。

佳能公司介绍称，传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上，而新产品则通过在晶圆上的抗蚀剂上压印电路图案的掩模来实现此目标。由于电路图案转移过程不涉及光学组件，因此可以在晶圆上忠实地再现掩模上的精细电路图案。