【深铭易购】资讯：12月26日消息，日本光刻机制造巨头佳能（Canon）于今年10月13日宣布推出了能够制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprinted Lithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C。佳能首席执行官御手洗富士夫近日接受采访时再次强调，该公司的新型纳米压印技术将为小型半导体制造商开辟生产先进芯片的新途径，不再局限于少数大型半导体制造商。

纳米压印技术与光学图像投影不同，它采用类似印刷技术的方法，通过直接压印在硅晶圆上形成图案，而不是依赖光学图像。只需在晶圆上进行一次压印，就能在特定位置形成复杂的2D或3D电路图。

当前，5纳米制程的先进半导体制造设备市场主要由ASML的EUV光刻机垄断，其单台价格约为1.5亿美元。对于更先进的2纳米及以下制程的芯片，ASML推出了成本更高的High-NA EUV光刻机，预计单台价格将超过3亿美元，使得尖端制程的成本不断攀升。

相比之下，佳能的纳米压印技术将使芯片制造商无需依赖EUV光刻机，即可生产最小5纳米制程节点的逻辑半导体。佳能半导体设备业务部长岩本和德表示，通过改进光罩，纳米压印甚至有望生产2纳米先进制程的芯片。佳能的纳米压印技术可能有望缩小其与ASML之间的竞争差距。

更为关键的是，佳能的纳米压印设备成本和制造成本远低于ASML的EUV光刻机。岩本和德表示，客户成本因条件而异，但据估算，1次压印工序的成本有时能降至传统曝光设备工序的一半。由于纳米压印设备规模较小，更容易引入研发等用途。

佳能CEO御手洗富士夫此前曾表示，公司的纳米压印设备价格将比ASML的EUV光刻机低一位数（即仅有10%）。在客户方面，佳能表示已收到许多来自半导体厂商、大学和研究机构的咨询，期望其作为EUV设备的替代产品备受期待。预计该设备将广泛应用于闪存、个人电脑用DRAM以及逻辑等多种半导体生产用途。